Praecipua applicationes offensionis aeris tungsten

Alaymus Wolframium stannum commoda metalli tungsten et cupri conjungit. Inter eos, tungsten altum punctum liquescens (punctum tungsten liquescens 3410°C est et punctum cupri liquescens 1080°C) et densitas alta (densitas tungsten 19.34g/cm3 et densitas cupri est 8.89. g/cm3) ; Aeris electrica et scelerisque conductivity habet. Mixtura aeris Wolframi (vulgo in latitudine WCu7~WCu50 composita) microstructuram uniformem habet, caliditas resistentiam, altam fortitudinem, arcus ablationem resistentiam, densitatemque altam habet; mediocrem electricam et scelerisque conductionem habet et late in re militari summus temperatura resistens materias habet. , admixtiones electricas pro virgas altas, machinamenta electrica electrodes, et materias microelectronicas, ut partes et partes, late in aerospace, aviation, electronicis, electricis viribus, metallurgia, machinis, instrumentis ludis et aliis industriis utuntur. Admixtiones cupreae in aerospace adhibentur sicut nozzes, gubernacula gasi, gubernacula aeris, et conos nares pro missilibus et tormentis erucae. Praecipua requisita sunt resistentiae caliditas (3000K~5000K) et summus caloris editi resistentiae. Aeris maxime adhibetur sub calidis temperaturis. Refrigeratio effectus sudor volatilisationi causatus (punctum aeris liquefactum 1083°C) superficiem aeris temperatura minuit, ut suum usum sub malis conditionibus caliditatis ferat. Admixtura aeris Wolframi late in virgas altas volitationis adhibetur, 128kV SF6 ambitus confractorum WCu/CuCr, et altae intentionis onus vacuum virgas (12kV 40.5KV 1000A) et comprehensores. Virgulae vacui altae intentione sunt parvae quantitatis, faciles conservandi, amplis usui, et in humidis adhiberi possunt, in ambitibus flammabilibus, explosivis et corrosivis. Praecipua observantia requisita sunt resistentia arcui ablatione, resistentia ad fusione welding, parvae abscissae currentis, contentus gas humilis, et emissio scelerisque electronicorum humilis facultas. Praeter conventionales observantias macroscopicas requiruntur, porositas et proprietates microstructurales requiruntur, ideo speciales processus adhibendus est, inclusis processibus implicatis, ut vacuum deficiens et vacuum infiltration.